Silicid tungsteni

Silici i tungstenit WSi2 përdoret si një material goditjeje elektrike në mikroelektronikë, për t'u larguar në tela polisilikoni, veshje antioksiduese dhe veshje me tela rezistente.Silicidi tungsten përdoret si material kontaktues në mikroelektronikë, me një rezistencë 60-80μΩcm.Formohet në 1000°C.Zakonisht përdoret si një devijim për linjat e polisilikonit për të rritur përçueshmërinë e tij dhe për të rritur shpejtësinë e sinjalit.Shtresa e silicit të tungstenit mund të përgatitet me depozitim kimik të avullit, siç është depozitimi i avullit.Përdorni monosilan ose diklorosilan dhe heksafluorid tungsteni si gaz lëndë të parë.Filmi i depozituar është jo stoikiometrik dhe kërkon pjekje për t'u shndërruar në një formë stoikiometrike më përçuese.

Silici i tungstenit mund të zëvendësojë filmin e mëparshëm të tungstenit.Silici i tungstenit përdoret gjithashtu si një shtresë penguese midis silikonit dhe metaleve të tjera.

Silici i tungstenit është gjithashtu shumë i vlefshëm në sistemet mikroelektromekanike, ndër të cilat silici i tungstenit përdoret kryesisht si një film i hollë për prodhimin e mikroqarqeve.Për këtë qëllim, filmi i silicit të tungstenit mund të gërvishtet me plazmë duke përdorur, për shembull, silicid.

Rich Special Materials është i specializuar në prodhimin e objektivit të spërkatjes dhe mund të prodhojë materiale për spërkatje me silicid tungsteni sipas specifikimeve të klientëve.Për më shumë informacion, ju lutemi na kontaktoni.