Aktualisht, pothuajse të gjitha objektivat e metalit të bakrit me pastërti ultra të lartë të nivelit të lartë të kërkuar nga industria IC janë të monopolizuara nga disa kompani të mëdha të huaja shumëkombëshe.Të gjitha objektivat e bakrit ultra të pastër të nevojshëm nga industria vendase IC duhet të importohen, gjë që është jo vetëm e shtrenjtë, por edhe e ndërlikuar në procedurat e importit. Prandaj, Kina duhet urgjentisht të përmirësojë zhvillimin dhe verifikimin e objektivave të spërkatjes së bakrit me pastërti ultra të lartë (6N). .Le të hedhim një vështrim në pikat kryesore dhe vështirësitë në zhvillimin e objektivave të spërkatjes së bakrit me pastërti ultra të lartë (6N).
1,Zhvillimi i materialeve me pastërti ultra të lartë
Teknologjia e pastrimit të metaleve Cu, Al dhe Ta me pastërti të lartë në Kinë është larg asaj në vendet e zhvilluara industriale.Aktualisht, shumica e metaleve me pastërti të lartë që mund të sigurohen nuk mund të plotësojnë kërkesat e cilësisë së qarqeve të integruara për objektivat e spërkatjes sipas metodave konvencionale të analizës së të gjitha elementeve në industri.Numri i përfshirjeve në objektiv është shumë i lartë ose i shpërndarë në mënyrë të pabarabartë.Grimcat shpesh formohen në vafer gjatë spërkatjes, duke rezultuar në qark të shkurtër ose qark të hapur të ndërlidhjes, gjë që ndikon seriozisht në performancën e filmit.
2,Zhvillimi i teknologjisë së përgatitjes së objektivit të spërkatjes së bakrit
Zhvillimi i teknologjisë së përgatitjes së objektivit të spërkatjes së bakrit fokusohet kryesisht në tre aspekte: madhësia e kokrrave, kontrolli i orientimit dhe uniformiteti.Industria e gjysmëpërçuesve ka kërkesat më të larta për spërkatjen e objektivave dhe avullimin e lëndëve të para.Ka kërkesa shumë strikte për kontrollin e madhësisë së kokrrizave sipërfaqësore dhe orientimit të kristalit të objektivit.Madhësia e kokrrës së objektivit duhet të kontrollohet në 100μ M më poshtë, pra, kontrolli i madhësisë së kokrrizave dhe mjetet e analizës dhe zbulimit të korrelacionit janë shumë të rëndësishme për zhvillimin e objektivave metalikë.
3,Zhvillimi i analizave dheduke testuar teknologjisë
Pastërtia e lartë e objektivit nënkupton reduktimin e papastërtive.Në të kaluarën, plazma e çiftuar në mënyrë induktive (ICP) dhe spektrometria e përthithjes atomike janë përdorur për të përcaktuar papastërtitë, por vitet e fundit, analiza e cilësisë së shkarkimit të shkëlqimit (GDMS) me ndjeshmëri më të lartë është përdorur gradualisht si standard. metodë.Metoda RRR e raportit të rezistencës së mbetur përdoret kryesisht për përcaktimin e pastërtisë elektrike.Parimi i tij i përcaktimit është të vlerësojë pastërtinë e metalit bazë duke matur shkallën e shpërndarjes elektronike të papastërtive.Për shkak se është për të matur rezistencën në temperaturën e dhomës dhe në temperaturë shumë të ulët, është e thjeshtë të merret numri.Vitet e fundit, për të eksploruar thelbin e metaleve, kërkimi mbi pastërtinë ultra të lartë është shumë aktiv.Në këtë rast, vlera RRR është mënyra më e mirë për të vlerësuar pastërtinë.
Koha e postimit: Maj-06-2022