Dallimi midis objektivit të elektrikimit dhe objektivit të spërkatjes

Me përmirësimin e standardeve të jetesës së njerëzve dhe zhvillimin e vazhdueshëm të shkencës dhe teknologjisë, njerëzit kanë kërkesa gjithnjë e më të larta për performancën e produkteve të veshjes së dekorimit rezistent ndaj konsumit, rezistent ndaj korrozionit dhe rezistent ndaj temperaturës së lartë.Sigurisht, veshja mund të zbukurojë edhe ngjyrën e këtyre objekteve.Atëherë, cili është ndryshimi midis trajtimit të objektivit të elektroplating dhe objektivit të spërkatjes?Lërini ekspertët nga Departamenti i Teknologjisë i RSM ta shpjegojnë atë për ju.

　　Objektivi i elektroplimit

Parimi i elektrikimit është në përputhje me atë të rafinimit elektrolitik të bakrit.Kur elektrizohet, elektroliti që përmban jonet metalike të shtresës së shtresës përdoret përgjithësisht për të përgatitur tretësirën e plating;Zhytja e produktit metalik që do të vendoset në solucionin e shtrimit dhe lidhja e tij me elektrodën negative të furnizimit me energji DC si katodë;Metali i veshur përdoret si anodë dhe lidhet me elektrodën pozitive të furnizimit me energji DC.Kur aplikohet rryma DC e tensionit të ulët, metali i anodës tretet në tretësirë ​​dhe bëhet kation dhe lëviz në katodë.Këto jone marrin elektrone në katodë dhe reduktohen në metal, i cili mbulohet në produktet metalike që do të vendosen.

　　Synimi i spërkatjes

Parimi është kryesisht përdorimi i shkarkimit të shkëlqimit për të bombarduar jonet e argonit në sipërfaqen e synuar, dhe atomet e objektivit nxirren dhe depozitohen në sipërfaqen e nënshtresës për të formuar një film të hollë.Vetitë dhe uniformiteti i filmave të spërkatur janë më të mira se ato të filmave të depozituar me avull, por shpejtësia e depozitimit është shumë më e ngadaltë se ajo e filmave të depozituar me avull.Pajisjet e reja të spërkatjes pothuajse përdorin magnet të fortë për të spiralizuar elektronet për të përshpejtuar jonizimin e argonit rreth objektivit, gjë që rrit probabilitetin e përplasjes midis objektivit dhe joneve të argonit dhe përmirëson shkallën e spërkatjes.Shumica e filmave të veshjes së metaleve janë me spërkatje DC, ndërsa materialet magnetike qeramike jopërçuese janë spërkatje RF AC.Parimi bazë është përdorimi i shkarkimit të shkëlqimit në vakum për të bombarduar sipërfaqen e objektivit me jone argon.Kationet në plazmë do të përshpejtohen për të nxituar në sipërfaqen e elektrodës negative si materiali i spërkatur.Ky bombardim do të bëjë që materiali i synuar të fluturojë dhe të depozitohet në nënshtresë për të formuar një shtresë të hollë.

　　Kriteret e përzgjedhjes së materialeve të synuara

(1) Objektivi duhet të ketë forcë të mirë mekanike dhe stabilitet kimik pas formimit të filmit;

(2) Materiali i filmit për filmin reaktiv të spërkatjes duhet të jetë i lehtë për të formuar një film të përbërë me gazin e reaksionit;

(3) Objekti dhe nënshtresa duhet të jenë të montuara fort, përndryshe, materiali i filmit me forcë të mirë lidhëse me nënshtresën duhet të adoptohet dhe fillimisht duhet të spërkatet një film fundor dhe më pas të përgatitet shtresa e kërkuar e filmit;

(4) Në bazë të përmbushjes së kërkesave të performancës së filmit, sa më i vogël të jetë diferenca midis koeficientit të zgjerimit termik të objektivit dhe nënshtresës, aq më mirë, në mënyrë që të zvogëlohet ndikimi i stresit termik të filmit të spërkatur;

(5) Sipas kërkesave të aplikimit dhe performancës së filmit, objektivi i përdorur duhet të plotësojë kërkesat teknike të pastërtisë, përmbajtjes së papastërtive, uniformitetit të komponentëve, saktësisë së përpunimit, etj.