Shumë përdorues duhet të kenë dëgjuar për produktin e objektivit të spërkatjes, por parimi i objektivit të spërkatjes duhet të jetë relativisht i panjohur.Tani, redaktori iMaterial special i pasur (RSM) ndan parimet e spërkatjes me magnetron të objektivit të spërkatjes.
Një fushë magnetike ortogonale dhe një fushë elektrike shtohen midis elektrodës së synuar të spërkatur (katodës) dhe anodës, gazi inert i kërkuar (përgjithësisht gazi Ar) mbushet në dhomën me vakum të lartë, magneti i përhershëm formon një fushë magnetike 250 ~ 350 Gauss në sipërfaqja e të dhënave të synuar, dhe fusha elektromagnetike ortogonale është formuar me fushën elektrike të tensionit të lartë.
Nën ndikimin e fushës elektrike, gazi Ar jonizohet në jone dhe elektrone pozitive.Një tension i caktuar i lartë negativ i shtohet objektivit.Efekti i fushës magnetike në elektronet e emetuara nga poli i synuar dhe probabiliteti i jonizimit të gazit të punës rritet, duke formuar një plazmë me densitet të lartë pranë katodës.Nën efektin e forcës së Lorencit, jonet Ar përshpejtohen në sipërfaqen e synuar dhe bombardojnë sipërfaqen e synuar me një shpejtësi shumë të lartë, atomet e spërkatura në objektiv ndjekin parimin e konvertimit të momentit dhe fluturojnë larg nga sipërfaqja e synuar në nënshtresën me energji të lartë kinetike. për të depozituar filma.
Gërmimi me magnet ndahet përgjithësisht në dy lloje: spërkatje degësh dhe spërkatje RF.Parimi i pajisjeve të spërkatjes me degë është i thjeshtë, dhe shpejtësia e tij është gjithashtu e shpejtë kur spërkatni metalin.Gërmimi RF përdoret gjerësisht.Përveç spërkatjes së materialeve përçuese, mund të spërkat edhe materiale jopërçuese.Në të njëjtën kohë, ai gjithashtu kryen spërkatje reaktive për të përgatitur materiale të oksideve, nitrideve, karbiteve dhe komponimeve të tjera.Nëse frekuenca RF rritet, ajo do të bëhet spërkatje e plazmës me mikrovalë.Tani, përdoret zakonisht spërkatja e plazmës me mikrovalë të rezonancës së ciklotronit elektronik (ECR).
Koha e postimit: maj-31-2022