Filmi i hollë në objektivin e veshur është një formë e veçantë materiale.Në drejtimin specifik të trashësisë, shkalla është shumë e vogël, e cila është një sasi mikroskopike e matshme.Përveç kësaj, për shkak të pamjes dhe ndërfaqes së trashësisë së filmit, vazhdimësia e materialit përfundon, gjë që bën që të dhënat e filmit dhe të dhënat e objektivit të kenë veti të ndryshme të përbashkëta. Dhe objektivi është kryesisht përdorimi i veshjes me spërkatje magnetron, redaktimi i Beijing Richmat do të na bëjë të kuptojmë parimi dhe aftësitë e veshjes me spërkatje.
一, Parimi i veshjes me spërkatje
Veshje spërkatje aftësi është për të përdorur jon granatimeve pamjen objektiv, atomet objektiv janë goditur nga fenomeni i njohur si spërkatje.Atomet e depozituara në sipërfaqen e nënshtresës quhen veshje spërkatëse. Në përgjithësi, jonizimi i gazit prodhohet nga shkarkimi i gazit dhe jonet pozitive bombardojnë objektivin e katodës me shpejtësi të lartë nën veprimin e fushës elektrike, duke goditur atomet ose molekulat e objektivi katodë dhe fluturon në sipërfaqen e nënshtresës për t'u depozituar në një film. Thjesht, veshja me spërkatje përdor shkarkimin e shkëlqimit të gazit inert me presion të ulët për të gjeneruar jone.
Në përgjithësi, pajisja e veshjes së filmit spërkatës është e pajisur me dy elektroda në një dhomë shkarkimi vakum, dhe objektivi i katodës përbëhet nga të dhënat e veshjes.Dhoma e vakumit është e mbushur me gaz argon me presion 0,1~10Pa.Shkarkimi i shkëlqimit ndodh në katodë nën veprimin e tensionit të lartë negativ prej 1~3kV dc ose tensionit rf prej 13.56mhz. Jonet e argonit bombardojnë sipërfaqen e synuar dhe bëjnë që atomet e synuara të spërkatura të grumbullohen në nënshtresë.
二、Karakteristikat e aftësive të veshjes me spërkatje
1, Shpejtësia e shpejtë e grumbullimit
Dallimi midis elektrodës së spërkatjes së magnetronit me shpejtësi të lartë dhe elektrodës tradicionale të spërkatjes me dy faza është se magneti është i vendosur poshtë objektivit, kështu që fusha magnetike e mbyllur e pabarabartë shfaqet në sipërfaqen e objektivit. Forca e lorencit në elektrone është drejt qendrës. të fushës magnetike heterogjene.Për shkak të efektit të fokusimit, elektronet ikin më pak.Fusha magnetike heterogjene shkon rreth sipërfaqes së synuar dhe elektronet dytësore të kapur në fushën magnetike heterogjene përplasen me molekulat e gazit në mënyrë të përsëritur, gjë që përmirëson shkallën e lartë të konvertimit të molekulave të gazit. Prandaj, spërkatja me magnetron me shpejtësi të lartë konsumon fuqi të ulët, por mund të marrë një efikasitet të madh të veshjes, me karakteristika ideale të shkarkimit.
2, Temperatura e nënshtresës është e ulët
Shpërthimi me magnetron me shpejtësi të lartë, i njohur gjithashtu si spërkatje me temperaturë të ulët.Arsyeja është se pajisja përdor shkarkime në një hapësirë fushash elektromagnetike që janë drejt e me njëra-tjetrën.Elektronet dytësore që ndodhin në pjesën e jashtme të objektivit, në njëri-tjetrin.Nën veprimin e një fushe elektromagnetike të drejtë, ajo lidhet pranë sipërfaqes së objektivit dhe lëviz përgjatë pistës në një vijë rrotulluese rrethore, duke trokitur vazhdimisht kundër molekulave të gazit për të jonizuar molekulat e gazit. Së bashku, vetë elektronet humbasin gradualisht energjinë e tyre, përmes gunga të përsëritura, derisa energjia e tyre të humbasë pothuajse plotësisht përpara se të mund të shpëtojnë nga sipërfaqja e objektivit pranë nënshtresës.Për shkak se energjia e elektroneve është shumë e ulët, temperatura e objektivit nuk rritet shumë.Kjo është e mjaftueshme për të kundërshtuar rritjen e temperaturës së substratit të shkaktuar nga bombardimi elektronik me energji të lartë të një goditjeje të zakonshme diodë, e cila përfundon kriogjenizimin.
3, Një gamë e gjerë strukturash membranore
Struktura e filmave të hollë të marrë nga avullimi me vakum dhe depozitimi i injektimit është mjaft i ndryshëm nga ai i marrë nga rrallimi i lëndëve të ngurta.Ndryshe nga trupat e ngurtë përgjithësisht ekzistues, të cilët klasifikohen si në thelb të njëjta strukturë në tre dimensione, filmat e depozituar në fazën e gazit klasifikohen si struktura heterogjene. Filmat e hollë janë kolonë dhe mund të hetohen me mikroskop elektronik skanues.Rritja kolone e filmit shkaktohet nga sipërfaqja origjinale konvekse e nënshtresës dhe disa hije në pjesët e spikatura të nënshtresës.Megjithatë, forma dhe madhësia e kolonës janë mjaft të ndryshme për shkak të temperaturës së nënshtresës, shpërndarjes sipërfaqësore të atomeve të grumbulluara, varrosjes së atomeve të papastërtive dhe këndit të rënies së atomeve të rënë në raport me sipërfaqen e nënshtresës.Në intervalin e tepruar të temperaturës, filmi i hollë ka një strukturë fibroze, me densitet të lartë, të përbërë nga kristale të imëta kolone, e cila është struktura unike e filmit spërkatës.
Presioni i spërkatjes dhe shpejtësia e grumbullimit të filmit ndikojnë gjithashtu në strukturën e filmit.Për shkak se molekulat e gazit kanë efektin e shtypjes së shpërndarjes së atomeve në sipërfaqen e nënshtresës, efekti i presionit të lartë të spërkatjes është i përshtatshëm për rënien e temperaturës së nënshtresës në model.Prandaj, filmat porozë që përmbajnë kokrra të imta mund të merren me presion të lartë spërkatjeje.Ky film me madhësi të vogël kokrrizash është i përshtatshëm për lubrifikimin, rezistencën ndaj konsumit, forcimin e sipërfaqes dhe aplikime të tjera mekanike.
4, Rregulloni përbërjen në mënyrë të barabartë
Komponimet, përzierjet, lidhjet, etj., të cilat janë mjaft të vështira për t'u veshur me avullim me vakum, sepse presionet e avullit të përbërësve janë të ndryshëm ose sepse ato diferencohen kur nxehen. Metoda e veshjes me spërkatje është që shtresa sipërfaqësore e synuar e atomeve të bëhet shtresë pas shtrese në substrat, në këtë kuptim është një aftësi më e përsosur për të bërë film.Të gjitha llojet e materialeve mund të përdoren në prodhimin e veshjeve industriale me spërkatje.
Koha e postimit: Prill-29-2022