Veshja me spërkatje me Magnetron është një metodë e re e veshjes fizike me avull, krahasuar me metodën e mëparshme të veshjes me avull, avantazhet e saj në shumë aspekte janë mjaft të jashtëzakonshme.Si një teknologji e pjekur, spërkatja me magnetron është aplikuar në shumë fusha.
Parimi i spërkatjes së magnetronit:
Një fushë magnetike ortogonale dhe një fushë elektrike shtohen midis polit të synuar të spërkatur (katodës) dhe anodës, dhe gazi inert i kërkuar (zakonisht gazi Ar) mbushet në dhomën me vakum të lartë.Magneti i përhershëm formon një fushë magnetike 250-350 gaus në sipërfaqen e materialit të synuar, dhe fusha elektromagnetike ortogonale përbëhet nga fusha elektrike e tensionit të lartë.Nën ndikimin e fushës elektrike, jonizimi i gazit Ar në jone pozitive dhe elektrone, synon dhe ka presion të caktuar negativ, nga objektivi nga poli nga efekti i fushës magnetike dhe probabiliteti i jonizimit të gazit të punës rritet, formojnë një plazmë me densitet të lartë pranë Katoda, Joni Ar nën veprimin e forcës së lorencit, përshpejtohet për të fluturuar në sipërfaqen e synuar, bombardimi i sipërfaqes së synuar me shpejtësi të lartë, Atomet e spërkatura në objektiv ndjekin parimin e shndërrimit të momentit dhe fluturojnë larg nga sipërfaqja e synuar me kinetikë të lartë. energji në filmin e depozitimit të substratit.
Gërmimi me magnet ndahet përgjithësisht në dy lloje: spërkatja me rrymë të vazhdueshme dhe spërkatja me RF.Parimi i pajisjeve të spërkatjes DC është i thjeshtë, dhe shpejtësia është e shpejtë kur spërkatni metalin.Përdorimi i spërkatjes RF është më i gjerë, përveç spërkatjes së materialeve përçuese, por edhe spërkatjes së materialeve jopërçuese, por edhe përgatitjes me spërkatje reaktive të oksideve, nitrideve dhe karbiteve dhe materialeve të tjera të përbëra.Nëse frekuenca e RF rritet, ajo bëhet spërkatje e plazmës me mikrovalë.Aktualisht, përdoret zakonisht spërkatja e plazmës me mikrovalë të tipit të rezonancës së ciklotronit elektronik (ECR).
Materiali i synuar i veshjes me spërkatje me magnet:
Materiali i synuar për spërkatje metalike, materiali i veshjes me spërkatje të aliazhit, materiali i veshjes me spërkatje qeramike, materialet e synuara për spërkatje qeramike boride, materiali synues i spërkatjes së qeramikës karabit, materiali i synuar për spërkatje qeramike me fluor, materiali i synuar për spërkatje qeramike nitride, materialet e synuara për spërkatje qeramike nitride, materialet e synuara për spërkatjen e qeramikës nitridi Materialet e synuara të spërkatjes së qeramikës silicide, materiali synues për spërkatje qeramike sulfide, objektivi për spërkatje qeramike Telluride, objektivi tjetër qeramik, objektivi qeramik i oksidit të silikonit të dopuar me krom (CR-SiO), objektivi i fosfidit të indiumit (InP), objektivi i arsenidit të plumbit (PbAs), objektivi (InAs).
Koha e postimit: Gusht-03-2022